今日無(wú)錫明創(chuàng)將沿著上篇的內(nèi)容繼續(xù)為大家介紹等離子滲氮處理。等離子滲氮處理時(shí)高能粒子和金屬表層晶格中的原子彈性碰撞，產(chǎn)生了高密度位錯(cuò)。對(duì)離子炮擊過(guò)得純鐵箔的電子顯微鏡調(diào)查研究標(biāo)明，位錯(cuò)密度前進(jìn)將添加資料的滲透能力，然后加速了氮的分散。

爐氣壓力與供氣流量和抽氣速率有關(guān)。在氣壓必定的條件下，真空泵的抽氣速率越大，氣體的流量就越大，氨氣的消耗量也就越大。在等離子滲氮處理中，氣壓直接影響電流密度的大小。氣壓大，電流密度大，而電流密度又影響升溫速度和保溫溫度。在實(shí)際操作中，氣壓應(yīng)在133～1066Pa之間，一般為266~ 800Pa。

爐氣壓力對(duì)滲氮層的安排有必定影響。高氣壓下化合物層中ε相含量增高，低氣壓易取得γ′相。氣壓在40~2660Pa時(shí)，不易呈現(xiàn)化合物層。

氣壓還決議輝光層的厚度，氣壓越大，dk越小，輝光層越薄，越有利于升溫。

(3)電壓。等離子滲氮處理所需的電壓與爐氣壓力、電流密度、工件溫度及陰陽(yáng)極間的間隔等要素有關(guān)。在其他要素必定時(shí)，電壓升高，則電流密度加大；氣壓升高，則電壓下降。在實(shí)際操作中，通過(guò)調(diào)節(jié)電壓和氣壓來(lái)控制電流的大小，達(dá)到升溫文保溫的目的，保溫階段的電壓一般為500~700V。

(4)電流密度。電流密度直接影響供應(yīng)工件的熱量的多少，首要依據(jù)滲氮溫度的要求來(lái)挑選。在升溫階段，需求的熱量多，電流密度也大；在保溫階段，需求的熱量較少，電流密度也較小。電流密度一般在0.5~20mA/cm2之間，常用0.5~3mA/cm2。

(5)氣源。等離子滲氮處理一般以氨氣為氣源，直接通入爐內(nèi)進(jìn)行滲氮，操作簡(jiǎn)略，運(yùn)用方便。也可將氨在660~670℃下分解為氮?dú)夂蜌錃?，再通入滲氮爐內(nèi)；還可以選用氮?dú)夂蜌錃獾幕旌蠚怏w作為氣源。后兩種氣源可以取得比直接運(yùn)用氨氣時(shí)更為均勻的溫度散布和滲氮層。調(diào)整氮?dú)夂蜌錃獾姆蓊~，還可取得所希望的滲氮層結(jié)構(gòu)和ε相層的厚度。氮?dú)夂蜌錃獾捏w積比可在1：9～9：1之間變化，氫氣所占的份額越大，則滲氮層中的ε相層越薄。

這就是今日的全部?jī)?nèi)容，假如大家想了解更多等離子滲氮處理的相關(guān)內(nèi)容,歡迎關(guān)注無(wú)錫明創(chuàng)。